T. Osaka
  • Место работы
    Waseda University
  • Tokyo, Japan

Applicability of Alkyl Monolayers on Si(111) Towards Practical Nano-scale Fabrication

  • Год: 2001
  • Том: 4
  • Выпуск: 1
  • 1
  • 786
  • Страницы: 67-70