МФМ
Механика и физика материалов Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
Издается с 2000
ISSN 1605-8119
ru Русский
Версия для слабовидящих
Подать статью

Статьи по ключевому слову "mechanical stress; silicon film; SiOx; PECVD; profilometry"

Effect of PECVD conditions on mechanical stress of silicon films

E.Yu. Gusev J.Y. Jityaeva O.A. Ageev
  • Год: 2018
  • Том: 37
  • Выпуск: 1
  • 13
  • 916
  • Страницы: 67-72