Последние выпуски
- 2025, Том 53 Выпуск 6
- 2025, Том 53 Выпуск 5
- 2025, Том 53 Выпуск 4
- 2025, Том 53 Выпуск 3
Kulagina
Место работы
Ioffe Institute
St. Petersburg, Russia
Surface morphology of InGaAs and InP layers after local Zn diffusion from the vapor phase in the MOCVD reactor
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 5
- 52
- 1776
- Страницы: 142-151