Kaniewska
Kaniewska
Место работы
Institute of Electron Technology
Warsaw, Poland

Nanostructured Layers in High Temperature — Pressure Treated Silicon Implanted with Hydrogen / Helium

  • Год: 2002
  • Том: 5
  • Выпуск: 1
  • 3
  • 1713
  • Страницы: 31-38