Последние выпуски
- 2025, Том 53 Выпуск 4
- 2025, Том 53 Выпуск 3
- 2025, Том 53 Выпуск 2
- 2025, Том 53 Выпуск 1
Misiuk Andrzej
Место работы
Institute of Electron Technology
Warsaw, Poland
High Pressure — High Temperature Treatment to Create Oxygen Nano-Clusters and Defects in Single Crystalline Silicon
- Год: 2000
- Том: 1
- Выпуск: 2
- 3
- 1853
- Страницы: 119-126
Nanostructured Layers in High Temperature — Pressure Treated Silicon Implanted with Hydrogen / Helium
- Год: 2002
- Том: 5
- Выпуск: 1
- 3
- 1717
- Страницы: 31-38