Последние выпуски
- 2025, Том 53 Выпуск 4
- 2025, Том 53 Выпуск 3
- 2025, Том 53 Выпуск 2
- 2025, Том 53 Выпуск 1
Vasil’ev
Место работы
Submicron Heterostructures for Microelectronics Research and Engineering Center, Russian Academy of Sciences (RAS)
Saint Petersburg, Russia
Zn diffusion from vapor phase into InGaAs/InP heterostructure using diethylzinc as a p-dopant source
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 3
- 26
- 1388
- Страницы: 38-45
Peculiarities of the two-stage Zn diffusion profile formation from vapor phase into InGaAs/InP heterostructure for avalanche photodiode fabrication
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 4
- 30
- 1262
- Страницы: 66-75
Surface morphology of InGaAs and InP layers after local Zn diffusion from the vapor phase in the MOCVD reactor
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 5
- 49
- 1512
- Страницы: 142-151