Последние выпуски
- 2025, Том 53 Выпуск 4
- 2025, Том 53 Выпуск 3
- 2025, Том 53 Выпуск 2
- 2025, Том 53 Выпуск 1
Sharkov
Место работы
Ioffe Institute
St.Petersburg, Russia
Growth of SiC films by the method of substitution of atoms on porous Si (100) and (111) substrates
- Год: 2018
- Том: 36
- Выпуск: 1
- 48
- 2962
- Страницы: 39-52
The analysis of the etch pits parameters in the (-201) plane of the β-Ga2O3 substrate crystals
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 3
- 38
- 1440
- Страницы: 46-51
Tribological characteristics of bulk (-201) β-Ga2O3 substrate crystals grown by EFG
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 6
- 37
- 1404
- Страницы: 135-144