Последние выпуски
- 2026,Том 54Выпуск 2
- 2026,Том 54Выпуск 1
- 2025,Том 53Выпуск 6
- 2025,Том 53Выпуск 5
Sharkov
Место работы
Ioffe Institute
St.Petersburg, Russia
Growth of SiC films by the method of substitution of atoms on porous Si (100) and (111) substrates
- Год: 2018
- Том: 36
- Выпуск: 1
- 50
- 3819
- Страницы: 39-52
The analysis of the etch pits parameters in the (-201) plane of the β-Ga2O3 substrate crystals
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 3
- 40
- 2180
- Страницы: 46-51
Tribological characteristics of bulk (-201) β-Ga2O3 substrate crystals grown by EFG
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 6
- 38
- 2041
- Страницы: 135-144

