Последние выпуски
- 2025, Том 53 Выпуск 4
- 2025, Том 53 Выпуск 3
- 2025, Том 53 Выпуск 2
- 2025, Том 53 Выпуск 1
Печников
Место работы
ФТИ им. А.Ф.Иоффе
Санкт-Петербург, Россия
Светоизлучающие р-n структуры, выращенные хлорид-гидридной эпитаксией на структурированных подложках GaN/Al2O3
- Год: 2015
- Том: 22
- Выпуск: 1
- 3
- 2174
- Страницы: 30-38
Оптические свойства толстых слоев нитрида галлия, выращенных хлорид-гидридной эпитаксией на структурированных подложках
- Год: 2016
- Том: 29
- Выпуск: 1
- 9
- 2240
- Страницы: 24-31
Исследование эпитаксиальных слоёв и монокристаллов β-Ga2O3 методом наноиндентирования
- Год: 2016
- Том: 29
- Выпуск: 2
- 61
- 3103
- Страницы: 166-171
Defects in thin epitaxial layers of (AlхGa1-х)2O3 grown on Al2O3 substrates
- Год: 2017
- Том: 32
- Выпуск: 2
- 9
- 2376
- Страницы: 178-185
Wear resistance of α- and β- gallium oxide coatings
- Год: 2021
- Том: 47
- Выпуск: 1
- 52
- 2381
- Страницы: 52-58
HVPE growth of corundum-structured α-Ga2O3 on sapphire substrates with α-Cr2O3 buffer layer
- Год: 2021
- Том: 47
- Выпуск: 4
- 105
- 2893
- Страницы: 577-581
Effect of Si+ ion irradiation of α-Ga2O3 epitaxial layers on their hydrogen sensitivity
- Год: 2022
- Том: 48
- Выпуск: 3
- 88
- 1773
- Страницы: 301-307
Epitaxial stabilization of α-Ga2O3 layers grown on r-plane sapphire
- Год: 2023
- Том: 51
- Выпуск: 1
- 120
- 1867
- Страницы: 1-9